金屬(shu)油漆(qi)(qi)(qi)漆(qi)(qi)(qi)上(shang)的(de)細度指顏骨料等比表面(mian)積解聚的(de)更加不(bu)勻(yun)數(shu)量，是金屬(shu)油漆(qi)(qi)(qi)漆(qi)(qi)(qi)上(shang)種(zhong)植的(de)過程 中的(de)內(nei)控(kong)的(de)指標的(de)一個，若比表面(mian)積解聚數(shu)量不(bu)更加不(bu)勻(yun)，即(ji)金屬(shu)油漆(qi)(qi)(qi)漆(qi)(qi)(qi)上(shang)的(de)細度檢查不(bu)及格(ge)，很易引發(fa)電鍍件外在不(bu)平展，的(de)發(fa)生(sheng)掉粉或掉發(fa)的(de)涂膜害處，各種(zhong)細度的(de)合理原因對(dui)金屬(shu)油漆(qi)(qi)(qi)漆(qi)(qi)(qi)上(shang)耐熱性具(ju)有主要不(bu)良影響。

1.影響(xiang)力漆層光學(xue)反應使用性能(neng)

色(se)(se)粉的遮住力(li)(li)和上色(se)(se)力(li)(li)考量于其在(zai)膜層中的乳狀(zhuang)液(ye)度，色(se)(se)粉在(zai)漆(qi)料(liao)中的用表(biao)現得越(yue)(yue)有(you)效，其上色(se)(se)力(li)(li)和遮住力(li)(li)也就(jiu)越(yue)(yue)大。乳狀(zhuang)液(ye)數越(yue)(yue)高(gao)，色(se)(se)粉與漆(qi)料(liao)接觸到的單單從表(biao)面積越(yue)(yue)大，色(se)(se)漆(qi)機磨(mo)得越(yue)(yue)細，所配制的電(dian)鍍(du)件會越(yue)(yue)光滑整潔(jie)，之所以電(dian)鍍(du)件亮(liang)澤度也會越(yue)(yue)高(gao)，即色(se)(se)漆(qi)細度與電(dian)鍍(du)件光滑整潔(jie)度、電(dian)鍍(du)件亮(liang)澤均(jun)不成比例。

2.影向電鍍(du)件(jian)耐老化(hua)

如常(chang)常(chang)會(hui)方面企業產(chan)品漆細度不是(shi)(shi)很(hen)合格品率(lv)，但(dan)噴板睡眠狀態合格品率(lv)，故不正確(que)的地(di)因(yin)為(wei)該(gai)企業產(chan)品就可以質疑運(yun)(yun)用(yong)。此種情(qing)況發生下假設質疑運(yun)(yun)用(yong)，很(hen)大于材料(liao)在涂(tu)膜(mo)后，造的方面是(shi)(shi)中期(qi)噴漆工藝后差不多無影晌，但(dan)涂(tu)膜(mo)的間斷性性及緊密(mi)性特差，油漆附著力亮光會(hui)下調。

與此同時伴隨涂料粒(li)狀(zhuang)浮于電(dian)鍍件(jian)之外(wai)，經晚風輕輕吹長時間(jian)陽光直(zhi)射或在外(wai)力的(de)(de)(de)功(gong)效(xiao)(xiao)的(de)(de)(de)功(gong)效(xiao)(xiao)下，許多(duo)浮于面上(shang)上(shang)的(de)(de)(de)粒(li)狀(zhuang)易從電(dian)鍍件(jian)中(zhong)破(po)(po)裂，使電(dian)鍍件(jian)面上(shang)上(shang)余留下圓(yuan)孔通病，并會(hui)造成(cheng)透(tou)水性的(de)(de)(de)功(gong)效(xiao)(xiao)顏色漸變(bian)為易金屬腐蝕的(de)(de)(de)中(zhong)央，最終得以(yi)影晌電(dian)鍍件(jian)的(de)(de)(de)耐力性，縮減其對基面材料的(de)(de)(de)自我保護的(de)(de)(de)功(gong)效(xiao)(xiao)，電(dian)鍍件(jian)會(hui)展(zhan)現耐力性更(geng)差、破(po)(po)裂及粉(fen)化毛(mao)病。

3.反應(ying)色(se)漆存貯不穩性

色漆(qi)有(you)穩定性(xing)高的茶葉保存性(xing)，必(bi)要(yao)條件是(shi)(shi)色漿涂料顆粒狀細(xi)、吸附情(qing)況好。但(dan)必(bi)須(xu)要(yao) 修復的是(shi)(shi)，色漿涂料的機磨細(xi)度固然不是(shi)(shi)越(yue)細(xi)越(yue)貴(gui)，十是(shi)(shi)原料生(sheng)育成本攀升，二油漆(qi)銜接力的降低(di)。

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